在电子制造业,无论是在晶圆级或多氯联苯,有多种材料涉及需要坚持期间彼此永久或流程步骤。独立于哪种类型的粘附过程你处理;附着力需要可靠的和成功的每一次。
附着力好最重要的要求之一是表面清洁。
RCA清洗硅片是标准的清洁方法前处理。清洗的目的是清除所有外国材料从表面包括灰尘、油、灰尘、硅等的清洗步骤分为两;RCA1 RCA2。RCA1将删除任何有机污染而RCA2照顾离子和金属污染。稀氢氟化解决方案通常是用于去除薄氧化层之间。水中断测试通常用来检查后的表面清洗过程的状态。水接触角测量提供了一个可追踪和定量方法做同样的事情。
适当的光致抗蚀剂附着力是至关重要的成功的光刻。
开发或蚀刻过程中附着力损失将导致模式错误是致命的设备制造。需要光刻胶与硅片之间的附着力促进剂已被认可。
Hexamethyldisilazane (HMDS)启动前常用的光阻剂的应用。硅片上的水接触角通常很低是由于吸附表层的水环境湿度。如果水层不去除光阻剂应用程序之前,有一个完整的风险分层的后续开发或化学腐蚀过程中光致抗蚀剂。脱水烘焙后,HMDS疏水涂层通常应用于表面呈现更多的疏水性,从而不易吸水。水接触角测量可用于HMDS找到最佳治疗协议以及检查治疗取得成功。
去除多余的通量是焊接过程的一个重要组成部分。
这是因为一些通量腐蚀性,其残留可能继续他们的活动和损害电路板在稍后的阶段。由于不利影响通量的多氯联苯,有一个广泛的清洁测试可用于多氯联苯。包括离子色谱法、溶剂提取(玫瑰)的电阻率测试、表面绝缘电阻测试(先生),和视觉测试。的玫瑰是目前最受欢迎的一个。玫瑰的主要优势测试是测试的速度和较低的价格。问题是,它不能检测各种各样的污染,和那些表面平均在整个测试。水接触角测量为玫瑰测试提供一个伟大的选择。水接触角的测量是由将电路板上的一滴水。(即如果水珠子。表面接触角高),不是准备保形涂层。 If the water spreads (i.e., the contact angle is low) the surface is free of organic contaminants, and the coating can be done. One advantage of a contact angle measurement is that it can be done also on extremely small areas.
保形涂料用于保护的多氯联苯高湿度等环境条件,各种空气污染物,和不同的温度。
大部分的载体材料多氯联苯是由玻璃纤维增强塑料通常较低表面自由能值在40到45 mN / m。此外,单个组件和组件的表面自由能有很大区别。这使得保形涂层困难和增加清洗步骤可能不足以增加表面自由能所需的水平。作为一般规则,保形涂层的表面张力应至少10 mN / m低于衬底的表面自由能。等离子体活化的多氯联苯可用于增加表面自由能,从而确保更均匀润湿的PCB。接触角测量可以使用在不同阶段的过程。开始时首先检查表面润湿性能,然后找到合适的等离子治疗参数来达到所需的水平。接触角还提供了一个优秀的工具用于质量控制以确保过程控制。
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