二维、紧密排列的纳米颗粒单层阵列支撑着各种技术和科学研究。例如，纳米颗粒单层可以作为传感器上的功能层，也可以用于生产用于纳米球光刻的胶体掩模。但是，如何有效可靠地将纳米颗粒(具有三维自由度)的溶液，并将这些颗粒限制在横跨大型基底的(二维)单层上呢?
纳米颗粒沉积技术的种类繁多。一些相对简单快速的方法有溶剂蒸发、浸渍涂层和旋转涂层。然而，这些技术会浪费大量的纳米颗粒，并且对纳米颗粒的密度和协调性的控制非常有限。
溶剂蒸发容易产生所谓的咖啡环效应，这是由马兰戈尼流引起的。这将导致不均匀沉积;中心是稀疏的纳米颗粒阵列，边缘形成多层。
另一方面，如果目的只是用纳米颗粒覆盖基材，那么浸渍涂层将提供一种极好的技术。然而，纳米粒子单层的沉积是这项技术的挑战。此外，浸渍涂层需要大量的纳米颗粒，这是一个问题，当使用更昂贵的纳米颗粒时。
自旋涂层是一种很有吸引力的方法，因为它易于扩大规模，而且该技术在半导体行业很有名。然而，薄膜的质量取决于几个工艺参数，如自旋加速度、速度、纳米颗粒的大小、基材的润湿性和所使用的溶剂。这使得精确控制图层属性变得困难。此外，所需的纳米颗粒溶液的体积通常相当高。
在气液界面形成纳米颗粒单层提供了一种可控的方法来沉积在几乎任何衬底上。纳米颗粒被困在气液界面，然后界面面积逐渐减小，使颗粒更紧密地结合在一起。控制包装密度是可能的，因为在给定区域内的纳米颗粒数量很容易计算。所需纳米颗粒的数量也可以保持在很低的水平。
在单层形成后，可以通过简单地通过接口拉动或推动基板将其转移到基板上。
如果您对如何制作纳米颗粒单层感兴趣，请观看由伦敦大学学院(UCL)的Alaric Taylor博士所做的题为“纳米颗粒单层沉积的实用指南”的网络研讨会。
