纳米颗粒涂层技术:自旋涂层和Langmuir-Blodgett沉积的比较

随着人们对纳米颗粒薄膜的兴趣日益浓厚，对能够大面积制备单层或可控多层结构的纳米颗粒包覆技术提出了需求。自旋镀膜是应用最广泛的薄膜镀膜技术之一，因此，任何新技术都被拿来与之比较。

旋转涂层基础知识

自旋涂层最典型的用途是半导体工业中光刻胶的沉积。光刻胶是一种分散到溶剂中的光敏聚合物化合物。用移液管将光刻胶涂在基材上。通过预先定义的纺丝配方中加速段和恒速段的组合，可以获得所需厚度的均匀层。

Langmuir - Blodgett沉积基础

Langmuir-Blodgett法传统上用于沉积不同类型的两亲性分子，如磷脂和脂肪酸。首先在气-水界面上铺展单层分子，然后通过减小表面积来控制单层分子的堆积密度。最后，通过浸渍将单层转移到固体基底上。

旋转涂层与朗缪尔-布洛杰特纳米颗粒沉积

当涉及到纳米颗粒时，Langmuir-Blodgett方法比自旋涂层具有许多优势。首先，由于旋转涂层技术的性质，它需要相对大量的纳米颗粒溶液，因为在这个过程中会浪费一些。在Langmuir-Blodgett方法中，几乎所有的材料都可以被利用。其次，Langmuir-Blodgett还提供了良好控制的纳米颗粒堆积密度，此外，单层质量可以在沉积之前通过称为布鲁斯特角度显微镜．多层结构也可以很容易地生产，因为可以根据需要进行尽可能多的浸渍循环。

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